AP-CVD法制备的二氧化钛薄膜结构及亲水性研究

AP-CVD法制备的二氧化钛薄膜结构及亲水性研究

基于实现在线镀膜的目的,研究了以TiCl4为钛源,用AP-CVD法在玻璃基板上制备TiO2薄膜的工艺.利用扫描电子显微(SEM)技术和X射线衍射(XRD)技术,研究了不同基板反应温度下薄膜的表面形貌和晶体结构,分析了表面形貌和结构对亲水性的影响.结果表明通过改变反应温度可以控制锐钛矿和金红石的相对量,薄膜的亲水性和表面形貌、粗糙度有密切的关系.

作 者：   作者单位：   刊 名： 真空科学与技术学报  ISTIC EI PKU 英文刊名： JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY  年，卷(期)： 2004 24(z1)  分类号： O484.4  关键词： 二氧化钛薄膜   AP-CVD   亲水性   TiCl4  

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