8.0 nm反射式偏振膜的设计和制备

8.0 nm反射式偏振膜的设计和制备

讨论了软X射线反射式偏振膜的设计原理和方法,利用设计软件模拟设计了8.0 nm处的Mo/B4C偏振膜.对影响多层膜性能的参量进行了详细的误差分析.利用磁控溅射镀膜机进行了偏振膜的制备研究,X射线小角衍射测量了多层膜的周期厚度,测量数据的拟合结果与设计值吻合很好.

作 者： 吕超 易葵 邵建达 L(U) Chao YI Kui SHAO Jian-da   作者单位： 中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜中心,上海,201800  刊 名： 光子学报  ISTIC PKU 英文刊名： ACTA PHOTONICA SINICA  年，卷(期)： 2007 36(11)  分类号： O434.14  关键词： 多层膜   软X射线   偏振   准布儒斯特角  

【8.0 nm反射式偏振膜的设计和制备】相关文章：

优化设计制备动态膜及其对印染废水的深度处理04-27

高耐污染中空纤维膜制备方法及产业化04-26

壳聚糖-CdS复合膜制备及其对吡啶的传感特性04-26

Ag-TiO2 复合膜的制备及光催化性能04-26

硅橡胶/陶瓷复合膜的制备及其油气回收性能研究04-25

十八烯反应膜的制备及其微观摩擦学性能研究04-27

γ-Al2O3微孔膜制备及其处理电镀废水的研究04-27

气体的制备、检验和净化复习教案04-24

磷渣路面基层材料的设计、制备与性能研究04-25

基于小分子自组装膜为模板的聚合物薄膜可控性制备方法04-27