退火对ZnO薄膜结构及发光特性的影响

退火对ZnO薄膜结构及发光特性的影响

生长在蓝宝石C面上的ZnO薄膜是通过等离子体金属有机物化学汽相淀积方法获得的,由其X光衍射得知,生长过程中分段退火和最后退火在薄膜中分别引入了张应力和压应力.通过对样品光致发光光谱研究表明:分段退火样品在380 nm附近出现了单一激子发射峰,而最后退火样品却出现了与应变有关的Γ?5和Γ?6两激子发射峰,同时在两者的光致发光光谱中与深能级有关的荧光峰都未出现.

作 者： 王金忠 杜国同 王新强 闫玮 马燕 姜秀英 杨树人 高鼎三 Liu Xiang Cao Hui Xu Junying CHANG R P H   作者单位： 王金忠,杜国同,王新强,闫玮,马燕,姜秀英,杨树人,高鼎三(吉林大学电子工程系光电子联合重点实验室,长春,130023)

Liu Xiang,Cao Hui,Xu Junying,CHANG R P H(Material Research Center, Northwestern University, U.S.A.) 

刊 名： 光学学报  ISTIC EI PKU 英文刊名： ACTA OPTICA SINICA  年，卷(期)： 2002 22(2)  分类号： O484.4+1  关键词： 等离子体金属有机物化学汽相淀积   半高宽   光致发光光谱  

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