中频磁控溅射沉积AlNx薄膜原子力形貌

中频磁控溅射沉积AlNx薄膜原子力形貌

在不同的氮气比例下,固定其他的放电条件,采用中频磁控测射沉积技术在常温下沉积AlNx薄膜.通过原子力显微镜研究了氮气比例对AlNx薄膜形貌和薄膜表面均方根粗糙度的影响.

作 者： 牟宗信 王振伟 刘升光 赵华玉   作者单位： 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室  刊 名： 航空制造技术  ISTIC 英文刊名： AERONAUTICAL MANUFACTURING TECHNOLOGY  年，卷(期)： 2007 ""(z1)  分类号： V2  关键词： 磁控溅射   物理化学气相沉积   氮化铝  

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