磁控溅射法制备氮化碳薄膜的研究进展

磁控溅射法制备氮化碳薄膜的研究进展

简要评述了磁控溅射法制备氮化碳(CNx)薄膜的研究进展的现状,以及磁控溅射法制备氮化碳(CNx)薄膜过程中工艺参数对薄膜的结构和性能的影响,展望了氮化碳研究的发展趋势.

作 者： 陈春 刘军 毕凯 陈志刚 李忠学 张兴国 CHEN Chun LIU Jun BI Kai CHEN Zhigang LI Zhongxue Zhang Xingguo   作者单位： 陈春,刘军,李忠学,张兴国,CHEN Chun,LIU Jun,LI Zhongxue,Zhang Xingguo(江苏大学材料学院,镇江,212013)

毕凯,BI Kai(镇江船艇学院,镇江,212003)

陈志刚,CHEN Zhigang(江苏工业学院,常州,213100) 

刊 名： 材料导报  ISTIC PKU 英文刊名： MATERIALS REVIEW  年，卷(期)： 2005 19(z1)  分类号：   关键词： 磁控溅射   氮化碳   薄膜  

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