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对激光烧蚀沉积Ag薄膜生长率和环境气压关系的理论解析
为了对激光烧蚀沉积Ag薄膜生长率和环境气压关系进行定量解释,考虑烧蚀产物在惰性气体环境中的动力学过程以及薄膜生长的沉积和二次溅射过程,并假定二次溅射几率正比于入射粒子的动能,建立了激光烧蚀沉积纳米薄膜生长的动力学模型.定量地解释了T.Scharf等人在惰性气体He,Ne,Ar,Xe环境下烧蚀沉积Ag膜的实验结果,所出现偏差乃计及大颗粒所致.
作 者： 王英龙 周阳 傅广生 彭英才 褚立志 张荣梅 作者单位： 河北大学物理科学与技术学院,河北,保定,07l002 刊 名： 中国激光 ISTIC EI PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF LASERS 年，卷(期)： 2004 31(z1) 分类号： O484.1 关键词： 薄膜物理学 Ag薄膜沉积 脉冲激光烧蚀【对激光烧蚀沉积Ag薄膜生长率和环境气压关系的理论解析】相关文章：
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