不同氧分压下ZrO2薄膜特性研究

不同氧分压下ZrO2薄膜特性研究

在不同的氧分压下用电子束热蒸发的方法生长了氧化锆薄膜.通过扫描探针显微镜、分光光度计、X射线衍射、激光损伤阈值(LIDT)测量等,研究了沉积中氧分压对ZrO2薄膜的微结构、光学性质、激光损伤阈值等的影响.

作 者： 张东平 邵建达 邵淑英 齐红基 高卫东 范正修   作者单位： 中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜中心,上海,201800  刊 名： 中国激光  ISTIC EI PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF LASERS  年，卷(期)： 2004 31(z1)  分类号： O484.5  关键词： 光学薄膜材料   氧分压   表面粗糙度   激光损伤阈值  

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