全息光栅光刻胶掩模槽形演化及其规律研究

全息光栅光刻胶掩模槽形演化及其规律研究

为了控制全息光栅光刻胶掩模槽形,运用曝光模型和显影模型模拟了掩模的槽形形成过程和变化规律.实验对比了不同曝光量,不同显影浓度,不同空频条件下的掩模槽形,特别是占宽比(光栅齿宽度与光栅周期的比)的情况.实验结果表明,实际槽形与模拟槽形很接近.模拟和实验均发现,在大曝光量、高浓度显影、高空频的光栅条件下所得槽形占宽比较小,槽深主要由原始胶厚决定.

作 者： 陈刚 吴建宏 刘全 CHEN Gang WU Jiang-hong LIU Quan   作者单位： 陈刚,CHEN Gang(南京信息职业技术学院,微电子工程系,南京,210046)

吴建宏,刘全,WU Jiang-hong,LIU Quan(苏州大学,信息光学工程研究所,江苏,苏州,215006) 

刊 名： 光学技术  ISTIC PKU 英文刊名： OPTICAL TECHNIQUE  年，卷(期)： 2008 34(1)  分类号： O436.1  关键词： 衍射光栅   全息光栅掩模   槽形模拟   占宽比控制  

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