脉冲激光沉积(PLD)薄膜技术的研究现状与展望

脉冲激光沉积(PLD)薄膜技术的研究现状与展望

综述了脉冲激光沉积(PLD)薄膜技术的研究现状,并按照研究方向将整个研究领域分为三个部分:PLD法沉积薄膜的机理,PLD的工艺研究以及PLD法沉积的主要薄膜材料,分别进行了阐述,对相关的研究工作提出了建议,并对PLD技术的应用前景做了展望.

作 者： 戢明 宋全胜 曾晓雁   作者单位： 华中科技大学激光技术国家重点实验室,武汉,430074  刊 名： 真空科学与技术学报  ISTIC EI PKU 英文刊名： VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY  年，卷(期)： 2003 23(1)  分类号： O848  关键词： 脉冲激光沉积   激光激发等离子体   液滴   颗粒物  

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