355nm激光作用下Si(CH3)4分子的MPI质谱研究

时间:2023-04-27 08:45:24 数理化学论文 我要投稿
  • 相关推荐

355nm激光作用下Si(CH3)4分子的MPI质谱研究

在355 nm的激光作用下,利用扩散分子束技术和四极质谱装置相结合研究了气相Si(CH3)4分子多光子电离(MPI)质谱分布.测量了Si(CH3)+4,Si(CH3)+3,Si(CH3)+2,Si(CH3)+及Si+离子的激光光强指数,检测了这5种碎片离子的信号强度占总信号强度的分支比随光强的变化关系.据此,讨论了该分子MPI过程可能经历的通道,得到了Si+主要来自于母体分子的多光子解离-硅原子的电离,Si(CH3)+n(n=1,2,3)主要来自于中性碎片Si(CH3)n(n=1,2,3)的自电离,Si(CH3)+4来自于母体分子的(3+1)电离的结论.

355nm激光作用下Si(CH3)4分子的MPI质谱研究

作 者: 刘玉芳 施德恒 孙金锋   作者单位: 刘玉芳,孙金锋(河南师范大学物理系,河南新乡,453002)

施德恒(河南师范大学物理系,河南新乡,453002;空军第一航空学院基础部,河南信阳,464000) 

刊 名: 中国激光  ISTIC EI PKU 英文刊名: CHINESE JOURNAL OF LASERS  年,卷(期): 2002 29(3)  分类号: O657.63  关键词: 四甲基硅   多光子解离电离   多光子电离解离   反应动力学   质谱  

【355nm激光作用下Si(CH3)4分子的MPI质谱研究】相关文章:

教案《奇异的激光》04-25

语体学视野下的“除非”句研究04-28

激光手术作文08-11

别李谱,别李谱赵嘏,别李谱的意思,别李谱赏析 -诗词大全03-13

汤谱大全03-13

古筝谱大全03-13

什么是黑脸娃娃激光美容04-28

研究生开题报告的作用和主要内容04-27

高中化学电解质教案4篇12-08

工会积极分子工作总结4篇01-07