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整体模压封头中夹杂缺陷二次射线照相定位方法
概述了模压封头中夹杂缺陷埋藏深度的二次射线照相测量方法的基本原理及试验过程,并根据对试验数据的分析确定了该测量方法中关键工艺参数平移距离W、焦距F的选取原则和数值,同时通过实例一、实例二对二次射线照相测量方法的验证,进一步证明了该测量方法的应用空间和应用价值.
作 者： 苏丽芳 李洪国 张新春 张华坤 作者单位： 航天四院四十三所 刊 名： 航空制造技术 ISTIC 英文刊名： AERONAUTICAL MANUFACTURING TECHNOLOGY 年，卷(期)： 2009 ""(z1) 分类号： V2 关键词： 整体模压封头 二次射线照相测量方法 平移距离 焦距【整体模压封头中夹杂缺陷二次射线照相定位方法】相关文章：
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