液滴喷射技术在全聚合物薄膜晶体管制备中的应用

液滴喷射技术在全聚合物薄膜晶体管制备中的应用

研究液滴喷射技术在全聚合物薄膜晶体管制备中的应用,并着重分析电极材料在预成型基底表面的沉积扩散情况.通过数值模拟,分析隔断材料、液滴与隔断间距、液滴碰撞速度3个因素对沉积的影响.结果发现.只有当这3个要素配置合理时.才能保证液滴的正常沉积,从而保证晶体管的质量.例如,当隔断材料采用聚酰亚胺,沟道宽度为5 μm.液滴与隔断间距为30 μm.液滴碰撞速度为4 m/s时.液滴能够正常沉积.晶体管的质量得到保证.本文结果可为TFTs的制作提供一定的参考.

作 者： 刘赵淼 刘华敏 张谭 LIU Zhaomiao LIU Huamin ZHANG Tan   作者单位： 北京工业大学机械工程与应用电子技术学院,北京,100022  刊 名： 科技导报  ISTIC PKU 英文刊名： SCIENCE & TECHNOLOGY REVIEW  年，卷(期)： 2008 26(13)  分类号： O351.2  关键词： 液滴喷射   晶体管   薄膜沉积   数值模拟  

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