Fe-Al-N薄膜的制备和磁性能

Fe-Al-N薄膜的制备和磁性能

用双离子束溅射法在(100)硅片和NaCl单晶基片上制备出FeAlN薄膜,研究了主源气氛和基片温度对FeAlN薄膜的结构及磁性能的影响.在基片温度较高或主源中氮的含量较低时,FeAlN薄膜有较高的饱和磁化强度Ms.加入Al使薄膜的晶粒细化,也使其矫顽力下降,热稳定性提高.在500℃退火后,Al的原子分数为10.0%的FeAlN薄膜仍具有较好的软磁性能,饱和磁化强度Ms和矫顽力He分别为2.02 T和0.96 kA/m.

作 者： 诸葛兰剑 吴雪梅 姚伟国   作者单位： 苏州大学  刊 名： 材料研究学报  ISTIC EI PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH  年，卷(期)： 2003 17(2)  分类号： O484  关键词： 金属材料   磁性能   离子束溅射   FeAlN薄膜   热稳定性  

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