氮化铝薄膜光学常数和结合力测试分析

氮化铝薄膜光学常数和结合力测试分析

用直流磁控溅射方法在硅衬底上制备氮化铝薄膜.X射线衍射仪和X射线光电子能谱仪分析了薄膜的结构和成分;椭圆偏振仪测量并拟合获得AIN薄膜在250～1000 nm波长范围内的折射率和消光系数曲线;利用大荷载划痕仪的声发射谱检测方法并结合不同压力下的划痕显微形貌观察得到薄膜临界载荷(结合力)Lc为29.45N.

作 者： 杨清斗 刘文 王质武 卫静婷 YANG Qing-dou LIU Wen WANG Zhi-wu WEI Jing-ting   作者单位： 深圳大学光电子学研究所,广东省光电子器件与系统重点实验室,深圳,518060;深圳大学光电子器件与系统教育部重点实验室,深圳,518060  刊 名： 硅酸盐通报  ISTIC PKU 英文刊名： BULLETIN OF THE CHINESE CERAMIC SOCIETY  年，卷(期)： 2007 26(5)  分类号： O484  关键词： 氮化铝薄膜   椭圆偏振仪   消光系数   划痕仪   结合力  

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