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溶胶凝胶制备纳米多孔SiO2光学增透薄膜耐磨特性强化研究
在溶胶-凝胶基础上,采用碱/酸两步法和浸渍镀膜技术制备出纳米多孔SiO2薄膜,并将该薄膜在空气和氨气与水蒸气的混合气体中热处理.使用透射电子显微镜、原子力显微镜、傅立叶红外光谱仪、椭偏仪、分光光度计等分析了薄膜的特性.实验结果表明:采用碱/酸两步催化法能够明显提高纳米多孔SiO2光学增透薄膜的力学特性,混合气体中的热处理又使其力学性能得到进一步改善.薄膜耐磨等力学性能增强归因于SiO2颗粒间更多的化学键合.在力学性能增强的同时,薄膜折射率仍保持约1.24的较低值,光学增透效果良好,透射率≥99.5%.
作 者: 吴广明 沈军 王珏 周斌 倪星元 作者单位: 同济大学,波耳固体物理研究所,上海,200092 刊 名: 原子能科学技术 ISTIC EI PKU 英文刊名: ATOMIC ENERGY SCIENCE AND TECHNOLOGY 年,卷(期): 2002 36(4) 分类号: O484 关键词: 溶胶-凝胶技术 增透薄膜 纳米多孔结构 SiO2薄膜【溶胶凝胶制备纳米多孔SiO2光学增透薄膜耐磨特性强化研究】相关文章:
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