基片及基片温度对Fe4N薄膜的形成及其特性的影响

基片及基片温度对Fe4N薄膜的形成及其特性的影响

以双离子束溅射法在(111)硅片和玻璃上分别制得了单一γ1-Fe4N薄膜,研究了基片及基片温度对薄膜的结构和磁性能的影响.结果表明,以(111)硅片为基片,可制得无晶粒择优取向的单一γ1-Fe4N相;而以玻璃为基片,在基片温度为160℃时,则可制得具有(100)面晶粒取向的单一γ1-Fe4N相薄膜;与无晶粒择优取向的γ1-Fe4N相比较,具有(100)面晶粒取向的γ1-Fe4N相的矫顽力较低,易达到磁饱和,但二者的饱和磁化强度基本一致.

作 者： 诸葛兰剑 姚伟国 吴雪梅 王文宝   作者单位： 诸葛兰剑,王文宝(苏州大学,分析测试中心,江苏,苏州,215006)

姚伟国,吴雪梅(苏州大学,物理系,江苏,苏州,215006) 

刊 名： 功能材料  ISTIC EI PKU 英文刊名： JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS  年，卷(期)： 2002 33(5)  分类号： O484  关键词： 双离子束溅射   基片   γ1-Fe4N薄膜   晶粒取向  

【基片及基片温度对Fe4N薄膜的形成及其特性的影响】相关文章：

压力传感器特性研究及其应用12-10

论清代广西诗派的形成、特征及其意义04-28

温度对3种蚜虫生长发育及繁殖的影响11-17

农用薄膜专项检查总结范文08-17

广东省从化市野生珍稀濒危植物观赏特性评价及其开发利用05-20

庾信山水诗的世俗化及其意义和影响04-28

温度的作文10-18

有温度的服务有温度的话作文08-17

温度作文05-30

饺子的温度02-21