电子束和离子注入处理鸡冠花种子对当代(Mo)植株生长发育影响的初步研究

电子束和离子注入处理鸡冠花种子对当代(Mo)植株生长发育影响的初步研究

利用电子束和氮离子、氢离子注入处理普通鸡冠花干种子,试验结果表明,两种诱变处理均能显著抑制鸡冠花植株的生长、发育,并能有效地诱发花性状变异,变异株率可达0.5%-2%.电子束处理鸡冠花干种子的半致死剂量(LD50)经测定为1.2kGy左右;离子注入处理的半致死剂量随注入离子种类不同而不同,N+注入的半致死剂量(LD50)为1.6×1017/cm2,H+注入的半致死剂量应低于1.6×1016/cm2.鸡冠花干种子电子束处理的适宜剂量为1.5kGy左右,离子注入处理的适宜方法是N+1.6×1016/cm2.同时鸡冠花对高剂量辐照较不敏感,是一种耐强辐照的资源.

作 者： WANG Dan 王丹 任少雄 李卫锋 苏乾治 苏军   作者单位：   刊 名： 辐射研究与辐射工艺学报  ISTIC PKU 英文刊名： JOURNAL OF RADIATION RESEARCH AND RADIATION PROCESSING  年，卷(期)： 2006 24(3)  分类号： Q94  关键词： 鸡冠花   电子束   离子注入   干种子   生长发育  

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