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儿童倒走足底压力的分布特征研究
为探讨倒走锻炼相对于正常向前行走在足底压力分布方面的特征,对12名健康男性小学生正,倒走足底压力分布进行采集.然后对足底10个区的最大压力和冲量进行分析.结果表明,儿童正,倒走足底压力分布差异明显.与正走相比,倒走时足弓、第4,5趾骨区的压力均变为较高压力区域,而大拇指、第1,2趾骨区变为较低压力区域.该结果提示,倒走足底压力分布特征可能是倒走所具有的锻炼、康复特殊效果主要原因之一.
作 者: 郝卫亚 陈严 胡水清 HAO Weiya CHEN Yan HU Shuiqing 作者单位: 郝卫亚,胡水清,HAO Weiya,HU Shuiqing(国家体育总局体育科学研究所,北京,100061)陈严,CHEN Yan(国家体育总局体育科学研究所,北京,100061;广东省体育科学研究所,广州,510663)
刊 名: 力学与实践 ISTIC PKU 英文刊名: MECHANICS IN ENGINEERING 年,卷(期): 2008 30(3) 分类号: O3 关键词: 儿童 倒走 足底压力 足 生物力学【儿童倒走足底压力的分布特征研究】相关文章:
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