La掺杂浓度对PLZT薄膜红外光学性质的影响

时间:2023-04-28 19:20:48 数理化学论文 我要投稿
  • 相关推荐

La掺杂浓度对PLZT薄膜红外光学性质的影响

采用溶胶-凝胶法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备了不同La掺杂浓度PLZT(x/40/60)薄膜. x射线衍射分析表明制备的PLZT(x/40/60)薄膜是具有单一钙钛矿结构的多晶薄膜. 通过红外椭圆偏振光谱仪测量了波长为2.5-12.6μm范围内PLZT薄膜的椭偏光谱,采用经典色散模型拟合获得PLZT薄膜的红外光学常数,同时也拟合获得PLZT薄膜的厚度. 随着La掺杂浓度的增大,折射率逐渐减小. 而消光系数除PLZT(4/40/60)薄膜外,呈现逐渐增大的趋势. 分析表明这些差异主要与PLZT薄膜的结晶性,如晶粒尺寸,以及颗粒边界、形貌、电子能带结构有关. 通过计算得到PLZT薄膜的吸收系数大于PZT薄膜的吸收系数. 随着La掺杂浓度的增大,静态电荷值逐渐减小. 这说明在PLZT中,电荷的转移是不完全的,它属于离子-共价混合的化合物.

作 者: 胡志高 石富文 黄志明 王根水 孟祥建 林铁 褚君浩   作者单位: 中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室,上海,200083  刊 名: 物理学报  ISTIC SCI PKU 英文刊名: ACTA PHYSICA SINICA  年,卷(期): 2003 52(7)  分类号: O4  关键词: PLZT薄膜   红外光学性质   红外椭圆偏振光谱  

【La掺杂浓度对PLZT薄膜红外光学性质的影响】相关文章:

Ag掺杂对ZnO薄膜的光电性能影响04-26

氟掺杂的氧化锌薄膜的结构和光学特性04-27

N 掺杂ZnO薄膜的接触特性04-26

硅衬底上Zn1-xMgxO薄膜的结构与光学性质04-26

纳米ZnO薄膜制备及液态源掺杂04-27

Cr掺杂对La0.75Ca0.25MnO3陶瓷材料磁性能的影响04-26

等离子体增强反应蒸发沉积的氟掺杂氧化铟薄膜的性质04-27

V2O5掺杂对TiO2纳米复合薄膜性能的影响04-26

无机阴离子掺杂TiO2薄膜光催化性能及红外光谱分析04-27

脉冲激光沉积Al/Ag掺杂功能梯度薄膜04-27