一种软X射线多层膜界面粗糙度的计算方法

一种软X射线多层膜界面粗糙度的计算方法

提出一个利用多层膜小角X射线衍射谱衍射峰积分强度计算多层膜界面粗糙度的公式.用磁控溅射技术制备Mo/Si多层膜,用波长为0.154 nm的硬X射线测量样品在小掠入射角区的衍射曲线,分别用本文公式和反射率曲线拟合方法计算了样品的界面粗糙度.实验结果表明:由本文公式获得的界面粗糙度近似于拟合方法获得的界面粗糙度,它们略等于多层膜界面实际粗糙度.

作 者： 冯仕猛 赵海鹰 黄梅珍 范正修 邵建达 窦晓鸣   作者单位： 冯仕猛,赵海鹰,黄梅珍,窦晓鸣(上海交通大学物理系,上海)

范正修,邵建达(中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800) 

刊 名： 光学学报  ISTIC EI PKU 英文刊名： ACTA OPTICA SINICA  年，卷(期)： 2003 23(8)  分类号： O484  关键词： 薄膜光学   多层膜   X射线衍射强度   粗糙度  

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