X射线荧光层析成像中消除散射光的方法

X射线荧光层析成像中消除散射光的方法

介绍了X射线荧光层析成像技术的成像原理及其在微量分析领域中的应用.针对X射线与物质相互作用时,不仅产生荧光,而且会产生各种散射光,为消除这些散射光对成像结果的影响,提出采用在与入射X射线垂直方向放置一个圆环状的晶体单色器,即双聚焦模式晶体单色器,使荧光与各种散射光分离,并聚焦在探测器上.这样不仅大大增强了荧光信号的强度,而且可使荧光探测器小型化.

作 者： 谢红兰 高鸿奕 陈建文 陆培祥 徐至展   作者单位： 中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800  刊 名： 光学学报  ISTIC EI PKU 英文刊名： ACTA OPTICA SINICA  年，卷(期)： 2003 23(4)  分类号： O434.14 TH742.63  关键词： X射线光学   X射线荧光层析   晶体单色器   同步辐射  

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