DNA在纳米碳管上的检测及甘草素-Cu(Ⅱ)对DNA的损伤研究

DNA在纳米碳管上的检测及甘草素-Cu(Ⅱ)对DNA的损伤研究

本文用恒电位溶出法测定了单链、双链DNA在纳米碳管上的电化学行为,详细讨论了各种因素的影响,并研究了甘草素在铜离子的存在下对DNA的损伤作用,发现在0.84 V左右出现一个新峰,1.06 V的峰升高.同时用压电石英阻抗技术实时监测了这个损伤过程,进行进一步地佐证,频率的变化是损伤过程中的DNA降解导致的溶液粘密度变化所产生的.

作 者： 刘英菊 袁锐昌 黎艳玲 LIU Ying-ju YUAN Rui-chang LI Yan-ling   作者单位： 刘英菊,袁锐昌,LIU Ying-ju,YUAN Rui-chang(华南农业大学理学院应用化学系,广东,广州,510642)

黎艳玲,LI Yan-ling(长沙卷烟厂科研所,湖南,长沙,410007) 

刊 名： 化学研究与应用  ISTIC PKU 英文刊名： CHEMICAL RESEARCH AND APPLICATION  年，卷(期)： 2007 19(6)  分类号： O657.1  关键词： 甘草素   纳米碳管   DNA损伤   恒电位溶出分析  

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