六氰合铁酸铜钴薄膜修饰铂电极的电化学、XRD及XPS研究

六氰合铁酸铜钴薄膜修饰铂电极的电化学、XRD及XPS研究

采用循环伏安法在铂电极上电聚合了六氰合铁酸铜钴薄膜,并用电化学、XRD和XPS对该薄膜进行了表征.研究表明此薄膜属于取代型的多核六氰合铁酸盐,由Cu2+,Co2+和Fe2+共同占据晶格格点.通过改变Cu2+,Co2+和Fe3+在沉积液中的比例可以改变聚合膜的性质.随沉积液中Cu2+含量的增加,聚合膜中铜的含量相应增加而晶格常数则逐渐减小,但保持着面心立方的晶格对称性.当沉积液中Cu2+:Co2+:Fe3+=1:1:2时,得到的聚合膜具有比较典型的性质,该薄膜修饰的铂电极在pH4～10之间均能保持着稳定的电化学响应.其对一价阳离子的选择性顺序为K+＞Li+＞Na+＞NH4+,与单组分的六氰合铁酸铜和六氰合铁酸钴都存在着较大的差别.XPS实验表明氧化态薄膜中铁元素以Fe(Ⅲ)存在,并且在X射线的照射下很快转化为Fe(Ⅱ).

作 者： 崔兴品 汪夏燕 张雷 林祥钦   作者单位： 中国科学技术大学化学系,合肥,230026  刊 名： 化学学报  ISTIC SCI PKU 英文刊名： ACTA CHIMICA SINICA  年，卷(期)： 2002 60(4)  分类号： O6  关键词： 混合金属六氰合铁酸盐薄膜   化学修饰电极   XRD   XPS  

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