掠出射X射线荧光光谱仪研制

掠出射X射线荧光光谱仪研制

掠出射X射线荧光分析技术是分析薄膜特性和介质表面的一种重要工具.文中简述了利用掠出射X射线荧光技术分析薄膜厚度的原理和方法,介绍了一种在实验室里由激发光源、样品承载系统、色散系统、探测系统和数据收集及处理系统构成的掠出射X射线荧光光谱仪系统,并给出了利用55Fe放射性同位素标定该光谱仪系统的试验结果.

作 者： 巩岩 尼启良 陈波 曹健林   作者单位： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 应用光学国家重点实验室,吉林长春 130022  刊 名： 光学精密工程  ISTIC EI PKU 英文刊名： OPTICS AND PRECISION ENGINEERING  年，卷(期)： 2002 10(6)  分类号： O431.1  关键词： 掠出射X射线荧光   光谱分析   薄膜  

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