平板扰流片高度对壁面压力分布的影响

平板扰流片高度对壁面压力分布的影响

在风洞中研究了扰流片高度和底部间隙对平板扰流片引起的底板壁面压力分布的影响.用电子扫描阀测量的压力分布结果表明,底部没有间隙时,扰流片高度的增加不影响扰流片前后分离点、再附点以及主涡相对位置的变化;而下游回流区二次涡的相对高度随着扰流片高度的增加而增加,导致该区域无量纲压力系数绝对值减小.底部相对间隙在0.8～2.0之间时,扰流片高度小于边界层厚度时的壁面平均压力比扰流片高度大于边界层厚度时小30%左右.底部间隙对各种扰流片引起的壁面压力分布的影响趋势完全相似.

作 者： 张攀峰 王晋军 展京霞   作者单位： 北京航空航天大学飞行器设计与应用力学系,北京,100083  刊 名： 水利学报  ISTIC EI PKU 英文刊名： JOURNAL OF HYDRAULIC ENGINEERING  年，卷(期)： 2002 ""(3)  分类号： V211.1+9  关键词： 流动分离   流动再附   扰流片   压力分布  

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